美國科技傳媒The Information報道，中國已開始生產自主研發的深紫外光(DUV)光刻機，報道引述知情人士指，初期產量有限，今年可生產約5部DUV光刻機，預計今年交付給包括中芯國際(00981.HK)、華虹宏力(01347.HK)和長鑫存儲在內的內地領先晶片製造商，到明年產量可增至約20部。

由於事關敏感，知情人士並未透露這間具國有背景的上海製造商身份，但這間公司已從上海宇量昇科技等其他內地企業抽調人員，組建研發團隊。在美國目前考慮對外國光刻設備出口和在中國維修服務，實施更嚴格限制之下，今次的生產突破將有望打破荷蘭供應商ASML長期以來的主導地位，但雙方系統在性能和可靠度方面或存在差距，在實現量產前仍需要進一步測試。

ASML拒絕回應報道，公司股價跌超過7%，創下自6月初以來最大單日跌幅，同時亦拖累全球晶片設備供應鏈相關的公司股價。中國目前亦在研發國產的極紫外光(EUV)光刻機，但目前仍處於原型階段。

龐寶林：國產光刻機有利技術廣泛應用

東驥基金管理董事總經理龐寶林表示，內地生產的光刻機雖然目前技術未必及外國，但認為已有一定水平，今日市場反應亦不算過大，認為即使在科技封鎖下，在中國的生產體系下發展出技術只是時間問題。他又指，中國技術成本便宜，除了調頭吸引美國企業運用，亦有利其他國家運用本來被西方主導的技術。