路透引述知情人士報道，內地科學家今年初已造出一台光刻機原型機，可生產驅動人工智能、智能手機和先進武器的晶片。這部原型機由荷蘭艾司摩爾(ASML)前工程師團隊建造，他們對公司生產的極紫外光刻機（EUV）作了逆向工程，原型機目前正在測試中。
報道指，中國的EUV光刻機已能運行並成功產生極紫外光，但尚未生產出可用的晶片，內地當局目標是在2028年前實現原型機晶片生產。