政府可重用口罩被質疑無加入得獎專利設計，創新及科技局聯同紡織及成衣研發中心下午召開記者會，解釋口罩設計。香港紡織及成衣研發中心行政總裁葛儀文指，雖然派發的可重用口罩，沒沿用原有在日內瓦得獎的弱磁場專利技術，但強調口罩的得獎的原因，是整個口罩的殺菌、抗菌及可重用的設計，並非單純口罩的專利技術，而在日內瓦得獎的可重用口罩，只有一層含銅微粒，今次派發的可重用口罩，面層及濾芯均有銅微粒，同樣有殺菌功能，並加入人體工學，令口罩更適合亞洲人面孔，形容是原有在日內瓦參賽得獎的重用口罩「改良版」。
創新及科技局常任秘書長蔡淑嫻指，周二與中心介紹可重用口罩技術時，已有提及今次派發的口罩沒加入弱磁場技術，但承認如果在記者會有詳細講解會更好，但並非刻意隱瞞。