彭博社引述消息報道，美國政府擔心荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾(ASML)的先進光刻機，可能違反出口限制並已經流入中國，商務部長盧特尼克在近期的一系列會議上，向公司高層表達關切。

報道指，盧特尼克關注的焦點，包括可以生產尖端晶片、禁止向中國出口的極紫外光刻機(EUV)；與會的ASML高層則反駁盧特尼克的憂慮，強調沒有流入中國。不過報道引述華府官員指，有證據顯示ASML向中國出口相關設備，但以性質敏感為由，拒絕透露詳情和公開相關證據。

消息人士指，ASML於4月與盧特尼克會面後，已進入「危機模式」，並已準備澄清的文件，內容表明全球超過300部EUV機器中，沒有任何一部在中國；公司亦可以偵測EUV產品組合的異常情況，如果沒有ASML參與，客戶無法自行拆除、運輸和重新安置EUV系統。

美國商務部未有回應。ASML重申，從來沒有向中國出口EUV，相關謠言並不真確，並損害公司聲譽。發言人強調ASML一直致力遵守所有法規，並與各國政府保持溝通。荷蘭外交部亦強調，嚴格地執行對光刻機等相關出口限制，會在必要時作出干預。